● 超纯水专用膜技术：采用膜表面高分子嫁接技术，不仅耐酸碱清洗、抗高污染，还可以加快离子迁移速度，使产水TOC在20PPB以下；

● CDI新型电除盐技术：采用新型均粒树脂包填充，双流道错流式高频电子极板模式，有效提高脱盐率；

● 超洁净循环管道技术：采用新型材料对管道表面进行处理，保证系统运行无污染物析出，确保系统内无死水。

● 电子半导体材料、器件、电解电容生产铝箔及工作件的清洗用水；

● 显像管、荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管径的清洗用水；

● 液晶显示屏生产过程中清洗所用的配液用水；

● 电子芯片生产中，主要用于清洗硅晶元，另有少量用于药液配制及切割用水；

● 集成电路生产中清洗硅片所用的高纯水、高品质显像管、荧光粉生产用水；

● LCD、LED液晶显示屏、PDP等离子显示屏工艺用水；

● 光伏产品晶片切割制造及光电产品生产用水；

● 蓄电池、锂电池、太阳能电池生产用水；

● 电镀、涂装、汽车、金属及其他高端精密机械、精微产品表面处理用水；

● 金属、化工、生物等领域研究所用水；

● 航天、天文、核电等军工企业，科研单位生产加工用水。

● GB/T11446.1-1997《中国国家电子级水》

● JB/T7621-1994《电力半导体器件工艺用高纯水》

● GB6682-2008《分析实验室用水国家标准》

● ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工业用超纯水标准》

● GMP认证标准